蘭考機(jī)械密封沖刷的目的是為了防止雜質(zhì)堆積，防止氣囊形成，保持和改善潤滑等，當(dāng)沖刷液溫度較低時(shí)，兼有冷卻作用。下面向大家解說蘭考機(jī)械密封的沖刷技巧。

　　1、內(nèi)沖刷

　　正沖刷：利用工作主機(jī)的被密封介質(zhì)，由泵的出口端通過管路引入密封腔。主要用于清潔流體。當(dāng)溫度高或有雜質(zhì)時(shí)，可在蘭考機(jī)械密封管路上設(shè)置冷卻器、過濾器等。

　　反沖刷：利用工作主機(jī)的被密封介質(zhì)，由泵的出口端引入密封腔，沖刷后通過管路流回泵進(jìn)口。主要用于清潔流體。全沖刷是利用工作主機(jī)的被密封介質(zhì)，由泵的出口端通過管路引入密封腔，沖刷后再經(jīng)管路流回泵進(jìn)口。該方法在冷卻效果上較好。

　　2、外沖刷：引入外系統(tǒng)與被密封介質(zhì)相容的清潔流體至密封腔進(jìn)行沖刷。外沖刷液壓力應(yīng)比被密封介質(zhì)大0.05-0.1MPA，合用于介質(zhì)為高溫或固體顆粒的場合。沖刷液的流量應(yīng)保證帶走熱量，還需知足沖刷的需要，不會(huì)產(chǎn)生對密封件的沖蝕。為此，需控制密封腔的壓力和沖刷的流速，一般清潔沖刷液的流速應(yīng)小于5M/S；含有顆粒的漿狀液體須小于3M/S，為達(dá)到上述的流速值，沖刷液與密封腔壓力的差值應(yīng)≤0.5MPA，一般取0.05-0.1MPA，對雙端面蘭考機(jī)械密封可取0.1--0.2MP。沖刷液進(jìn)入和排出密封腔的孔口位置，應(yīng)設(shè)置在蘭考機(jī)械密封端面四周，且應(yīng)在靠近動(dòng)環(huán)側(cè)，為了防止石墨環(huán)被沖蝕或因冷卻不均引起溫差變形，以及雜質(zhì)堆積和結(jié)焦等，可采用切向引入或多點(diǎn)沖刷。必要時(shí)，沖刷液可以是熱水或蒸汽。